三星2021年將推芯片新技術(shù) 性能提高35%能耗降50%

　　5月15日消息，據(jù)國外媒體報道，三星將于2021年向市場推出一項突破性的處理器技術(shù)，對最基本的電子元件進行根本性改造，使芯片性能提高35%，同時使能耗降低50%。

　　據(jù)悉，當(dāng)?shù)貢r間周二三星在于加州圣克拉拉舉行的三星鑄造論壇(Samsung Foundry Forum)上宣布，這項名為“環(huán)繞柵極”(gate all around，GAA)的技術(shù)能夠?qū)π酒�核心晶體管進行重新設(shè)計和改造，使其更小更快。到2021年，應(yīng)用這種技術(shù)的芯片問世后將成為三星與英特爾和臺積電等競爭對手的交手中邁出的重要一步。三星希望借此加快芯片行業(yè)的發(fā)展步伐。近年來，芯片行業(yè)一直難以克服極端小型化帶來的工程挑戰(zhàn)。

　　國際商業(yè)戰(zhàn)略咨詢公司(International Business Strategies)首席執(zhí)行官漢德爾·瓊斯(Handel Jones)表示，三星強大的材料研究項目正在取得成效。

　　他表示:“三星在GAA方面領(lǐng)先臺積電大約一年時間。”“而英特爾可能落后三星兩到三年。”

　　三星的進步將延長摩爾定律所描述的行業(yè)進步，確保我們的手機、手表、汽車和家庭互聯(lián)設(shè)備能變得更智能。在GAA技術(shù)的幫助下，至少在未來幾年，用戶可以期待出現(xiàn)更好的圖形處理技術(shù)、更智能的人工智能和其他計算方面的改進。

　　“GAA將標(biāo)志著我們代工業(yè)務(wù)進入一個新時代，”三星代工業(yè)務(wù)營銷副總裁瑞安李(Ryan Lee)在本次活動上表示。(辰辰)